- 產(chǎn)品介紹
- 產(chǎn)品特點
> 采用PID溫度控制技術(shù),恒溫波動度±0.1℃;
> 細膩的隔熱和保溫設(shè)計,確保設(shè)備在+200℃運行時,儀器表面溫度不會太高,保證操作安全;
> 低噪音設(shè)計,免除實驗室噪音難題;
> 設(shè)備操作簡單,自動和手動2中模式,操作更方便;
> 工作溫度范圍內(nèi)的過溫安全保護功能,保護實驗安全;
> 具有斷電記憶功能;
> 具有機械限溫和超溫保護,雙重保護,使用更放心;
> 適合內(nèi)部和外循環(huán)應(yīng)用,應(yīng)用范圍廣;
> 相關(guān)配件采用大品牌,性能穩(wěn)定且壽命長;
> 具備傳感器開路、短路保護、ADC初始化檢測等,安全防護更全面;
- 技術(shù)參數(shù)
高溫恒溫油槽G20020(80℃~200℃)
型號 |
G20020 |
控溫范圍 |
80℃~200℃ |
溫度波動度 |
±0.1℃ |
顯示精度 |
0. 01℃ |
容積 |
20L |
液槽尺寸 |
280x300x280mm |
開口尺寸 |
260x280mm |
溫度控制 |
PID程序 |
最大流量 |
15L/min |
最大壓力 |
1.5bar |
加熱功率 |
2000W |
電源 |
220V 50Hz 16A |
外形尺寸 |
410x580x820mm |
安全性能 |
數(shù)顯溫度校準,傳感器開路、短路保護和報警,高低溫保護 |
- 應(yīng)用范圍
> 材料老化測試
> 化學設(shè)備熱源的溫度控制
> 半導體設(shè)備的溫度控制
> 反應(yīng)釜動態(tài)溫度控制
> 樣品保存、發(fā)酵
> 物性測試及化學分析
> 蒸餾系統(tǒng)控溫
> 化工、制藥、電子等領(lǐng)域工藝控制
> 高溫消毒,高溫蒸餾,高溫測量與檢定等